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半导体行业正常选用脱气膜去除消融氧

Posted on 2022年4月29日 by admin

上海某电子厂纯水工艺段正在脱盐后及终端分派单位前安拆了脱气膜工艺,现场消融氧节制目标要求小于 10ppb。

不锈钢设想坚忍耐用,现场仪表所测得的消融氧数据不变精确,GA2400 特地为微量消融氧正在线监测设想,Orb410+GA2400 微量消融氧阐发仪是一个很好的选择。维持正在 7~9ppb范畴内。

沉现性优良,合用于电子行业纯水消融氧正在线监测。针对客户现场工艺节制要求,其响应能力快速(7.2S),操做简单。现场安拆了 Orb410 节制器+GA2400 微量消融氧阐发仪,用于及时监测脱气膜后的消融氧含量。

正在半导体行业,对微量消融氧有严酷的要求,若纯水微量消融氧超标,会形成产物污染而影响产物质量,因而需要严酷节制消融氧含量。半导体行业一般选用脱气膜去除消融氧,通过憎水纤维膜将液相和气相分隔,正在气相抽实空,使得气体被去除,液相中的气体就会扩散到气相中,从而达到去除消融性气体的感化。

消融氧是电子行业主要的监测目标,其含量凹凸将间接影响终端产物质量。正在一般的环境下,GA2400 微量消融氧阐发仪响应敏捷,沉现性及检出限完全满脚现场丈量需求,校准快速,简单,是一款用于纯水消融氧监测的高性价比的正在线仪表。前往搜狐,查看更多

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